三星電子會長李在鎔結束與南韓總統尹錫悅同行於荷蘭的國事訪問，於今（15）日上午返回南韓，似乎對此次的荷蘭行成果感到非常滿意，三星此行與荷蘭最大半導體設備簽屬MOU，未來將與ASML工程師共同研開發EUV最新技術。

每日經濟報導，三星電子在12日與尹錫悅一同參觀荷蘭艾司摩爾（ASML）總部，並簽屬兩國合作備忘錄（MOU），ASML承諾與三星共同投資7億歐元（約新台幣250億元），於南韓首都圈設立開發新一代極紫外光設備（EUV）。

若要製造世界上最尖端的晶片，極紫外光刻機（EUV）是個不可或缺的設備，而ASML是這世界上唯一生產販售該設備的企業。

ASML不久後將推出高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）一台機器高達4億美元，訂單仍是堆積如山，台積電、英特爾、三星等半導體都爭相訂購，以2025年量產2奈米晶片為目標。

三星設備解決方案事業部（Device Solutions, DS）社長慶介賢（音譯，경계현）表示，現在三星擁有了High NA EUV的技術優先權，長遠看來，三星可以好好地將High NA EUV利用在Dram和邏輯晶片上。

慶介賢說，此次MOU主要目的是在京畿道建立共同研究所，並引進High NA EUV，ASML工程師將與三星工程師們共同開發技術，比起快速引進設備，透過共同研究，三星能夠好地利用High NA EUV更加重要。

報導指出，李在鎔看起來對於此次的荷蘭行成果十分滿意，慶介賢也說，EUV是最重要的設備之一，從整體半導體供應鏈來看，三星獲得了非常堅實的友軍。